电子级四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之,主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。在低温制冷、电子器件表面清洗和气相缘等

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商品详细介绍 名称 纯度(%) 含量(ppm) 包装 四氟化碳(CF4) ≥99.999% O2 N2<5 CO2<1 H2O<1.5 SF6<1 其他氟碳化合物<1 47L钢瓶

15小时前如何看待高纯四氟化碳和六氟化硫国产化研发成功?关注者0 被浏览1 关注问题​写回答 ​邀请回答 ​好问题 0 ​添加评论 ​分享 ​暂时

四氟化碳,又称为四氟甲烷、Freon14及R 14,是一种卤代烃(化学式:CF4)。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。零下

四氟化碳在常温常压下是无色无臭有轻微醚味,较易挥发的不燃烧的压缩气体,是化学性质非常稳定的有机物。充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化

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四氟化碳是目前微电子工业中用量的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光

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