但毫无疑问,上述的抛光方法都是原子级的材料去除。比如下图为弹性发射的加工原理,简单来说是磨粒(微型刀具)靠近工件表面原子,利用原子间的相互作用力将工件表面原子

相应地 如何实现零件的超光滑抛光已经成为精密加一【 的一个重要研究课题 越来越弹性发射加工 低压水射流抛光 场效应辅助加工 等离子体辅助抛光 电

23.167非球面超精密抛光技术研究现状木袁巨龙1, 2吴酷1吕冰海2阮德南1陆惠宗2赵萍2(1. 湖南大学国家高效磨削工程技术研究长沙4 100822. 浙江工业

3.2难加工材料的加工 对于硬脆材料的精密加工,超精密研磨、抛光是 一种有效的手段。运用特种加工技术如离子束抛光、 弹性发射加工等,可明显提高加工表面质量。美国

除 CMP 技术外,经典的超精密研磨抛光方 法还有以下几种。 (1)弹性发射加工(Elastic emission machine,EEM)。 日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面,以

超精密抛光是加工速度极慢的一种加工方法。不适合形状范成法加工,近年来,由于日本大阪大学工学部森勇芷教授等人利用EEM开发了一种三轴(x、z、C)数

(1) 弹性发射加工(Elastic emission machine,EEM)。日本大阪大学TSUWA 等研究了在工件表面,以原子级去除材料的可行性,建立了弹性发射加工理论,其加工

原子尺度超精密抛光,大气压等离子复合加工,电化学复合加工等。 教育经历: ◆ 2013.042016.03 大阪大学(日本),精密科学与技术专业 博士 ◆ 2011.0420

(强调 高面形精度和极低的粗糙度值) 1日本大阪大学森勇藏( Y. Mori) 等人发展的弹性发射加工[ 5 ] ( EEM Elastic Emission Machining) 技术,采用浸液

计算机数控超精密抛光技术和非球面复印技术等,这些加工方法,基本上解决了各种非日本大阪大学工学部森勇正教授提出了一种用化学气体加工的新的加工

超精密加工方法主要包括超精密切削(车、铣)、超精密磨削、超精密研磨(机械研磨、化学机械研磨、非接触式浮动研磨、弹性发射加工等)以及超精密特种加工

(2)弹性发射抛光( ElasticEmissionMachining )弹性发射抛光是1979 年日本大阪大学光学者发明的一种计算机数控超光滑加工技术, 它是利用微细粒子溅射到

并对超精密研 磨抛光加工的发展趋势进行预测。 关键词: 关键词:化学机械研磨 弹性发射加工 动压浮离抛光 浮法抛光 低温抛光磁场辅助抛光 磨粒加工 使

随着非接触抛光技术进一步发展,不断有新的非接触式抛光方法出现,如 日本大阪大学森勇藏等人发展的弹性发射加I(EEMElasticEmissionMachining) 技术,日

1O.3901/JM E.2012.23.167 非球面超精密抛光技术研究现状水 袁巨龙,2 吴酷 吕冰海 2 阮德南 陆惠宗 2 赵萍2 (1.湖南大学国家高效磨削工程

本次会议旨在研讨第三代半导体材料的超精密磨削、抛光、切割、激光加工的工艺日本理化学研究所、九州大学、大阪大学、岩手大学、第三代半导体产业

基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量去除,达到高精度的加工表面。 弹性发射加工 弹性

10.3901/JME.2012.23.167 非球面超精密抛光技术研究现状* 袁巨龙 1, 2 吴喆大学提出的弹性发射加工)或离子溅射(如 1988 年美 国新墨西哥大学完善的离子束

難波義治(Namba Yoshiharu)教授,日本大阪大学工学博士学位,先后于日本大阪大学和中部大学任教。长期从事精密超精密加工、光学元件测量以及激光加工等领域

(2)弹性发射抛光(ElasticEmissionMachining) 弹性发射抛光是1979年日本大阪大学光学者发明的一种计算机数 控超光滑加工技术,它是利用微细粒子溅射到工

3、超精密研磨超精密研磨包括机械研磨、化学机械研磨、浮动研磨、弹性发射加工以及磁力研磨等加工方法。超精密研磨的关键条件是几乎无振动的研磨运动

(1)弹性发射加工(E1astic emission machine, CMP是IBM公司于20世纪80年代中期开发 EEM)。日本大阪大学TSUWA等H3】研究了在 工件表 的一项技术,用