超高真空多功能薄膜制备系统(磁控溅射、电子束蒸发) 仪器简介：此系统可以配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵,或冷凝 …
《薄膜制备技术基础》是化学工业出版社于2009年出版的书籍,此书较为系统、全面地介绍了与薄膜制备技术相关的各种基础知识,涉及了薄膜制备系统、典型的物理制膜与化学制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技术,同时紧密结合当前薄膜领域进的技术、方法和装置。
目前,组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式,这样不可避免造成累积误差,直接影响到薄膜制备过程中组分控制的精度。此外线性掩膜板反复变向及加减速操作也会加速机械部分磨损,降低系统稳定性。
薄膜沉积制备系统 芬兰PICOSUN™ R200系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现的均匀性,包括挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。
本实用新型是关于薄膜制备装置领域,特别涉及自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统。背景技术： 近年来,为了降低太阳能电池的成本,硅片的厚度不断降低,但是随着硅片厚度的减薄,少数载流子的扩散长度可能接近或大于硅片的厚度,部分少数载流子将会扩散到电池背面而产生复合 ...
薄膜制备 压片/辊压 切片设备 焊接设备 清洗设备 辅助设备 电子天平 手套箱 除湿机 真空系统 供气系统 水冷机 实验设备（按工艺分） 混料制浆设备 涂布设备 压片/辊压设备 分切/裁切设备 焊接设备 卷绕/叠片设备 电池组装设备 电池安全性测试设备 加热炉系列
关键词：薄膜制备,PVD,CVD,镀膜工艺 薄膜制备工艺包括薄膜制备方法的选择 基体材料的选择及表面处理 薄膜制备条件的选择和薄膜结构、性能与工艺参数的关系等 物理气相沉积（PVD）这种薄膜制备方法 …
三元硫属化合物cu-sn-s系统薄膜制备及表征,薄膜表征,多孔材料制备与表征,催化剂制备与表征,氟化合物制备及应用,溶胶凝胶法制备薄膜,薄膜制备,薄膜制备技术基础,薄膜的制备方法,薄膜制备工艺
上海续波光电技术有限公司是一家专业从事高性能薄膜沉积及处理设备、光电材料及软件、金刚石合成及应用等产品及服务进口的技术贸易服务型公司。公司今已与法国、德国、英国、瑞士、意大利、美国、加拿大、日本等国家的多家企业建立了战略合作关系,并服务于国内从事微电子、半导体 ...
薄膜的制备与溅射条件有很大的关系,其中电源的输出功率和 Ar 气的压强对 :聚四氟乙烯薄膜的制备及其红外光谱研究1765 薄膜沉积的影响明显. 当功率太大时,所得薄膜为淡黄色,靶面上的溅射痕迹也是淡黄 这是因为功率太大时,靶面温度太高,从而使得 部分碳化,薄膜中 的含量增加,从而使得薄膜的 ...
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Laser-MBE系统属于一代（第三代）高通量组合薄膜制备系统。利用高能脉冲激光,将靶材成分溅射到基片处进行外延生长。在生长过程中利用可移动的掩膜板,能够在一片基片上生长出连续梯度组分薄膜,大大提高了薄膜生长效率,更有利于新材料的探索与物性研究。
东方金荣的超声波精密喷涂设备可用于玻璃、金属、陶瓷、塑料、聚合物等各种软硬基材上的多种功能性纳米薄膜的制备,诸如AR减反增透薄膜、亲水及疏水涂层、纳米银线、碳纳米管、石墨烯等透明导电薄膜、TCO、量子点、钙钛矿等等。
负责人：赵玉清所在学院：电信学院 一、项目简介1.基本情况碳基薄膜包括种类很多,例如石墨、金刚石、非晶碳、石墨烯、碳纳米管、碳化硅、碳化钛等,因此碳基材料具有非常丰富的物理化学特性,一直是科学家研究的。碳基薄膜中C有四个价电子,可以有包含sp3、sp2和sp1三种杂化方式。
东方国际招标有限责任公司受中国科学院化学研究所委托,根据《中华人民共和国政府采购法》等有关规定,现对中国科学院化学研究所高真空多功能薄膜制备系统采购项目进行竞争性磋商招标,欢迎合格的供应商前来投标。
氧化物薄膜制备系统已具备招标条件,项目招标人为中国科学院上海技术物理研究所,资金为国拨,出资比例为,资金已落实。 北京国科军友工程咨询有限公司（招标机构）受中国科学院上海技术物理研究所（招标人）的委托,现对该项目进行国际公开招标。
压电薄膜的制备方法 压电薄膜的制备方法主要有传统的真空镀膜方法,包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、化学气相沉积镀膜是制备厚度在0～18μm,新型溶胶凝胶法、水热法、电泳沉积法是制备10～100μm的压电厚膜材料。
然而在较低温度下制备的单层TCO 薄膜存在载流子迁移率较低,电阻率偏高,且因TCO 薄膜较脆,在柔性基底的弯曲性并不理想等缺点。 银基多层透明导电薄膜如TCO/Ag/TCO 结构的薄膜,因Ag 具有良好的导电性和延展性,Ag 的加入利于实现透明导电薄膜制备的低温化,使得薄膜在弯曲状态下保持 …
特别是当光学系统中多谱段共用的光学元件较多时,光学薄膜的优劣可能使光学系统的总体透过率有非常大的差别。因此,发展多谱段共用光学薄膜技术是提高多光合一光学系统性能的主要技术手段。
We are a leading analytical instrumentation company. Our precision instruments help develop better solutions at the frontiers of science. We offer world class know-how, committed to scientific excellence and continuous solution development.
这是获得百纳米级厚度适于直接制备太阳能电池等器件的较大面积单晶 钙钛矿薄膜的报道。研究表明 所制备 单晶薄膜具有良好的结晶性,与基底接触良好,并且 具有 与 体相钙钛矿单晶 相当 的光学和电学性能（图2）,为进一步制备和研究钙钛矿单晶 薄膜
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超高真空多功能薄膜制备系统(磁控溅射、电子束蒸发) 仪器简介：此系统可以配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研.高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵,或冷凝 …
《薄膜物理与器件》主要论述了薄膜物理与薄膜器件的基本内容,并概括介绍了在新材料技术领域中有着重要应用的几类主要的薄膜材料。书中比较系统地介绍了薄膜的物理化学制备原理与方法,包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术等；同时介绍了薄膜的形成,薄膜的 ...
目前,组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式,这样不可避免造成累积误差,直接影响到薄膜制备过程中组分控制的精度。此外线性掩膜板反复变向及加减速操作也会加速机械部分磨损,降低系统稳定性。
这些系统是zui理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。
多晶硅薄膜的制备方法 多晶硅薄膜材料同时具有单晶硅材料的高迁移率及非晶硅材料的可大面积、低成本制备的优点。 因此,对于多晶硅薄膜材料的研究越来越引起人们的关注,多晶硅薄膜的制备工艺可分为两大 类一类是高温工艺,制备过程中温度高于 600℃,衬底使用昂贵的石英,但制备工艺较 ...
智能薄膜的设计是基于膜对外界刺激响应显著改变的特性。这些外界刺激通常包括光、压力、pH、温度、湿度、电场及磁场等。多孔膜的门控性质则是指膜孔道的打开和关闭。例如,当一个纳米通道薄膜系统处于打开状态时,它允许离子传输从而实现离子电导。
薄膜材料的真空、等离子制备、处理技术现已被广泛应用于半导体、光电、太阳能等领域的研发以及成产当中,这些技术包括： 等离子体增强化学气相沉积反应器（PECVD Reactors）
ADVANCED离子束溅射系统 1. 沉积各类金属薄膜； 2. 磁性材料沉积需与平台联系确认。 靶面温度≤100℃, 台面温度5℃－25℃ 北仪电子束蒸发系统 蒸镀铝、铜、银、钽等薄膜, 烘烤温度≤300℃ OLED器件实验制备系统 金属Al的蒸镀 烘烤温度≤200℃ 非晶硅
但是在湿化学方法制备功能薄膜方面研究还属于探索研究之阶段。 本团队在此方向寻找突破口,研究了溶胶-凝胶合成、水热合成、微波水热合成、电化学沉积、水热电化学沉积、液相自组装合成、紫外光超精细选位原位氧化还原沉积等多种湿化学合成功能薄膜材料的新工艺。
光学薄膜是现代光学的一个重要分支,同时也是现代光学仪器和各种光学器件的重要组成部分。它通过在光学玻璃、光学塑料、光纤、晶体等各种材料的表面镀制一层或多层薄膜,基于薄膜内光的干涉效应来改变透射光或反射光的光强、偏振状态和相位变化,光学薄膜具有出色的牢固性和光学稳定性 ...
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离子束溅射高通量薄膜制备系统 1套 利用离子束溅射系统可制备多元合金薄膜,在镀膜均匀前提下,通过薄膜厚度的控制,实现成分连续性分布,成分范围0-可控,分辨率可达到± 0.1%。
多功能薄膜制备系统-nanoETCH多功能薄膜制备系统-nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度,而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统 ...
目前,组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式,这样不可避免造成累积误差,直接影响到薄膜制备过程中组分控制的精度。此外线性掩膜板反复变向及加减速操作也会加速机械部分磨损,降低系统稳定性。
这些系统是zui理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。
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蒸发铝、铜、金、银、钼、钽、钛、铬等金属或合金薄膜 11. OLED器件实验制备系统 主要技术指标： 1. 配置：1个热蒸发腔室、1台UV固化设备（365nm）及1氮气手套箱,可实现OLED多层膜制备 …
薄膜材料的真空、等离子制备、处理技术现已被广泛应用于半导体、光电、太阳能等领域的研发以及成产当中,这些技术包括： 等离子体增强化学气相沉积反应器（PECVD Reactors）
一种光致稳定非线性硫系薄膜及制备方法 【摘要】一种光致稳定非线性硫系薄膜及其制备方法,属于光学薄膜和非线性光学材料。薄膜的化学组成为GexAsySzSe100-x-y-z,其中10≤x≤14,20≤y≤28,16≤z≤50；其制备采用真空热蒸镀法,真空度为10 ...
a-IGZO薄膜晶体管的制备及温度特性研究-为了满足对于航空航天、工业燃油涡轮机、石油与天然气等工业领域的探索,满足在高温环境下传感器测试以及读取系统的稳定工作,制造出能够满足在极端环境下稳定工作的电子器件是目前亟待攻克的难关...
特别是当光学系统中多谱段共用的光学元件较多时,光学薄膜的优劣可能使光学系统的总体透过率有非常大的差别。因此,发展多谱段共用光学薄膜技术是提高多光合一光学系统性能的主要技术手段。
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Quantum Design中国-BlueWave是美国的半导体设备、材料生产商,提供多种薄膜制备系统,包括：• 脉冲激光沉积(PLD)• 电子束蒸发• 热蒸发• 反应溅射• 热丝化学气相沉积(HFCVD)• 热化学气相沉积系统(TCVD)这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。
多功能薄膜制备系统-nanoETCH多功能薄膜制备系统-nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度,而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统 ...
提供 脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统（NEW）的详细参数指标和应用范围,以及 脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统（NEW）的厂商报价和资料,QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司也是激光脉冲沉积(PLD)仪器专业品牌供应商
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可制备一张石墨烯片,以验证LS是制备和研究单层石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。 Gilje, S. et al., 'Nano Letters' (2007), 7, 亲脂性蛋白常常存在于细胞膜中,漂浮单分子层模型可用于研究它们在接近原始环境时的相互作用,研究参数包括不同环境或含量的膜的堆积密度。
目前,组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式,这样不可避免造成累积误差,直接影响到薄膜制备过程中组分控制的精度。此外线性掩膜板反复变向及加减速操作也会加速机械部分磨损,降低系统稳定性。
发布时间： 浏览：182 次 实用超导薄膜研究团队 一、项目介绍 实用超导薄膜研究团队由物理所赵忠贤院士团队、高能所贻芳院士团队、近物所詹文龙院士团队、电子科大李言荣院士团队、理化所李来风研究员团队组成,整合了国内在超导材料探索、超导薄膜制备、低温技术、大型粒子加 …
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